Katalog der Deutschen Nationalbibliothek
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Link zu diesem Datensatz | https://d-nb.info/974322091 |
Art des Inhalts | Hochschulschrift |
Titel | Optimierung von Gate-Dielektrika für die MOS-Technologie / Alexandra Ludsteck |
Person(en) | Ludsteck, Alexandra (Verfasser) |
Zeitliche Einordnung | Erscheinungsdatum: 2005 |
Umfang/Format | Online-Ressource, ca. 3,9 MB |
Hochschulschrift | München, Univ. der Bundeswehr, Diss., 2005 |
Persistent Identifier | URN: urn:nbn:de:bvb:706-1095 |
URL |
http://ub.unibw-muenchen.de/dissertationen/ediss/ludsteck-alexandra/inhalt.pdf (Verlag) (kostenfrei zugänglich) http://137.193.200.177/ediss/ludsteck-alexandra/meta.html (Verlag) |
Schlagwörter | MOS-Schaltung ; Gate-Oxid ; Dielektrische Schicht ; Siliciumdioxid ; Siliciumoxinitride ; Rapid thermal processing |
DDC-Notation | 621.38152 [DDC22ger] |
Sachgruppe(n) | 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau |
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