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Art des Inhalts Hochschulschrift
Titel Arsenic trisulfide inorganic photoresist for three-dimensional photolithography / von Sean Hang Edmond Wong
Person(en) Wong, Sean Hang Edmond (Verfasser)
Zeitliche Einordnung Erscheinungsdatum: 2008
Umfang/Format Online-Ressource (PDF, ca. 9,2 MB)
Hochschulschrift Karlsruhe, Univ., Diss., 2008
Persistent Identifier URN: urn:nbn:de:swb:90-90845
URL Fakultät für Chemie und Biowissenschaften (Verlag) (kostenfrei zugänglich)
Sprache(n) Englisch (eng)
DDC-Notation 621.381531 [DDC22ger]
Sachgruppe(n) 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau

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